Toppan Photomasks 核准在中国投入全新 65 纳米至 14 纳米的先进技术及产能计划
全球业界首选光罩合作伙伴Toppan Photomasks, Inc.（TPI）10日宣布核准对近期扩建的中国上海厂的下一阶段投资计划；该厂由TPI独资子公司ToppanPhotomasks Company Limited, Shanghai（TPCS）营运。TPI将对此工厂再投资8,000万美元以展现其对中国快速成长的半导体产业及客户的长期承诺。TPI先前已投资2,000万美元扩建上海二厂（TPCSShanghai II）；该厂现已量产并且为中国唯一提供全方位技术及产品的商业光罩厂。
TPI CEO Mike Hadsell表示：“相较于其他供应商，上海厂除了提供中国客户缩短两天周期的优势外，并有利于加速客户攻占市场的时效。今天的宣布除了以上优势，并扩大光罩生产能力至28纳米。上海厂的先进技术也将更进一步延伸至14纳米，以符合中国半导体市场快速演进的需求。此外，上海厂区也有足够的扩建空间以支持客户在未来10年甚至更长远的产能需求。”
甫扩展的上海二厂坐落于目前公司营运地（上海漕河泾开发区），除了拥有先进的一级无尘室及设备外，并有利于下一阶段的扩展计划。此阶段的生产能力及技术将聚焦于65至14纳米的逻辑与先进内存（DRAM及NAND）。待今日宣布的计划完成后，仍将有40%的无尘室空间以做为日后扩展所需。
编辑：admin 最后修改时间：2018-01-05
