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11月6日消息显示，近日佳能CEO御手洗富士夫在接受采访时透露，该公司新型芯片制造设备基于NIL的售价将比ASML的EUV低数位数。
目前，ASML是唯一提供极紫外光刻机（EUV）的供应商。EUV对于大规模生产速度快、能耗低的芯片至关重要，但每台机器的售价高达数亿美元，只有少数公司才有能力购买。
因此，自2017年起，佳能便与铠侠和半导体零组件制造商大日本印刷株式会社（DNP）合作，研发基于纳米压印（NIL）的量产技术，以在不使用EUV的情况下将制程技术推进到5nm。
佳能说明，这套生产设备的工作原理与ASML光刻机不同，不是利用光学图像投影将集成电路的微观结构转移到硅晶圆上，而更类似于印刷技术，直接通过压印形成图案。
铠侠曾表示，NIL技术的微影制程较为简单，因此相较于EUV可以大幅减少能耗并降低设备成本。
御手洗富士夫还指出：“我不认为纳米压印技术会取代EUV，但我相信这将创造新的机会和需求，而且我们已经收到了很多客户的咨询。”
同时，他表示最终的定价目前尚未敲定，但希望能带来完全的惊喜。
